我公司在京都研究室进行离子束的应用研究。以下是我公司的离子束溅射源。离子束溅射法具有低温可形成薄膜、等离子对材料的影响也不存在等特点。
（根据合同还进行相同溅射源以及电源的单体销售）

存在无论如何都不能粘接的材料。在试用了不同的粘合剂，仍不能获得充分的粘接强度时, 请认为将它作为表面处理方法之一。还有助于想要形成非常薄的膜的情况。

可以根据离子束使材料表面粗糙，或者略微切削。从而会使难粘接性的材料能够粘接。而且通过以离子束照射硅等的目标，能够在材料表面形成薄膜。我公司可以形成Si、SiN、C、SiC、Al等的薄膜。